光化學(xué)反應(yīng)儀的損壞，常常伴隨著很多原因，其都有哪些因素，基本有一下幾點原因：

　　1)靜電穿刺

　　光化學(xué)反應(yīng)儀內(nèi)攪拌帶有懸浮物的液體，懸浮物與反應(yīng)劇烈的磨擦，還懸浮物自身也發(fā)作磨擦，多么就發(fā)作很多的靜電荷，高的靜電荷對反應(yīng)發(fā)作劇烈的穿刺效果，然后招致反應(yīng)點蝕，因此攪拌轉(zhuǎn)速不宜太快。

　　2)機械損壞

　　光化學(xué)反應(yīng)儀抗沖擊力非常差，任何金屬、硬物對其停止撞擊均會招致反應(yīng)破損。因此光化學(xué)反應(yīng)儀運用進程中謹(jǐn)防任何金屬、硬物失落進釜內(nèi)，如遇堵料，必需用塑料棒疏浚，檢修時蓋好鍋蓋，謹(jǐn)防焊渣凝結(jié)瓷面呈現(xiàn)小坑或爆瓷。

　　3)析氫腐蝕

　　光化學(xué)反應(yīng)儀的夾套在運用一段時間后會結(jié)垢和生銹，假設(shè)運用酸性除垢劑肅清污垢或夾套中的冷卻液偏酸性，都邑招致金屬發(fā)作析氫腐蝕 (Fe+2HCI=FeC12+H2O一部分H原子分散到金屬內(nèi)空穴，連系成}b，這些H：由于反應(yīng)的致密性而不克不及再向外分散，因此當(dāng)Hz聚積到必然的程度，構(gòu)成定的動力時，反應(yīng)就會發(fā)作分裂。

　　4)加工應(yīng)力損壞

　　在釜體加工進程中，由于卷筒、沖壓、焊接發(fā)作很多的內(nèi)應(yīng)力，這些應(yīng)力在反應(yīng)前應(yīng)*消弭，如消弭不*會招致反應(yīng)爆瓷。這種損壞常常發(fā)作在投入運用后的頭三個月。所以對胚體停止熱處置或時效處置能防止爆瓷。

　　光化學(xué)反應(yīng)儀主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品，測定反應(yīng)動力學(xué)常數(shù)，測定量子產(chǎn)率等功能，廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。